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高機能誘電体材料市場(2018年6月調査)

発刊日 2018年10月15日 体裁 24頁
資料コード R60202102 PDFサイズ 2.1MB
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リサーチ内容

~LSIの配線微細化に伴い層間絶縁膜は低誘電率化、
 一方、ゲート膜には高誘電率材料が必要で、新材料の模索が続く~

1.高機能誘電体材料とは
2.低誘電率(Low-k)薄膜材料
3.高誘電率(High-k)薄膜材料
4.高周波対応高誘電率バルク材料
5.高機能誘電体材料の市場規模推移と予測
  【図・表1.低誘電率材料のWW市場規模推移と予測
  (数量・金額:2015-2020年予測)】
  【図・表2.高誘電率材料の国内およびWW市場規模推移と予測
  (数量・金額:2015-2020年予測)】
6.高機能誘電体材料に関連した企業および研究機関の取組動向
  6-1.関東化学株式会社
  6-2.国立研究開発法人産業技術総合研究所(産総研)
  6-3.国立大学法人東京工業大学
  【図1.ECRスパッター装置(JSW-AFTY AFTEX-3400)の原理図(左)と外観(右)】
  【図2.Hf系MONOSトランジスターの構造】
  【図3.HfNゲート積層構造のin-situプロスによる形成】
  【図4.PtHfSiのコンタクト抵抗測定素子】
  【図5.グローブボックス付設型真空蒸着装置(ALS E-100J)の模式図(左)と外観(右)】
  【図6.有機ゲート絶縁膜を有するトップゲート型フレキシブル有機半導体トランジスター】
  6-4.国立大学法人東京大学
   (1)HfO2の多元化による高性能化
   (2)構造制御に依る誘電率の向上
   (3)高速熱処理に基づくHigh-k膜の構造制御
   (4)酸化物界面のダイポール形成
  6-5.株式会社トリケミカル研究所
  【表1.トリケミカル研究所の高機能誘電体材料ラインナップ】
  6-6.日本ゼオン株式会社
  【図7.「ZEONEX®」の応用事例(コネクター、アンテナ)】
  【図8.「ZEONEX®」が使われる高周波電子部品】
  6-7.国立研究開発法人物質・材料研究機構(NIMS)
  6-8.利昌工業株式会社
7.高機能誘電体材料の将来見通し

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